Утицај положаја субстрата у процесу депоновања дијаманта из парне фазе у методи једносмерног лучног плазменог млаза

 

Мирољуб Вилотијевић

Марија Крмар

 

Испитиван је утицај позиције субстрата на морфологију, брзину депоновања, површину депонованих дијамантских филмова и на њихову фазну чиштоћу, при чему су сви остали параметри процеса (однос ЦХ₄/Х₂, снага у плазми, притисак у комори и температура субстрата) држани константним. Са повећањем дистанце наношења од анодног отвора плазматрона долази до значајне промене у морфологији депозита (од кристалне до лоптасте), до смањења брзине депоновања и повећања површине покривености депозитом. Резултати дифракције X- зрака (XРД) указују на то да су сви депозити фазно чист дијамант. Разлог за фазно чист дијамант може бити у високој енталпији коришћене плазме, чиме се одржава релативно висока концентрација атомског водоника, који је због своје реактивности ефикасан у процесу нагризања не-дијамантских фаза.

Кључне речи: дијамант, хемијско-парна депозиција, млаз плазме.